Utility / Facility

省力化・省人化・環境負荷低減に向けた半導体工場モニタリングのご提案

超純水のシリカ分析に、コンパクト＆高感度な新性能

純水・超純水の処理や生産プロセスにおける制御・監視に

発生ガス成分に応じたマスフローコントローラを搭載し、簡単操作で混合ガスの発生が可能

時間帯ごとの急激な変動も見逃さない自動連続測定を実現

分子状汚染物質の室内大気のトレンドを自動で監視、クリーンルーム内の汚染原因の推定に

水処理の総合的な計測・管理のために必要な測定項目をコンプリート、お客様のニーズに沿った組み合わせを網羅

UV光と光触媒で有機汚れを分解

1200℃の高温燃焼酸化方式を採用し、難分解性サンプルを高速かつ正確に計測

pH電極の薬液洗浄などを自動化しメンテナンス作業の大幅に削減

地球環境の保全と産業プロセスにおけるトータルソリューションを提供

各種、微量ガス・不純物ガス濃度を測定、微量な特殊ガスや現場環境に対応した連続監視が可能

多様なガス成分に対応、除害装置・スクラバーの排ガス濃度監視

正確かつ安定したガス濃度測定を提供、長期安定した連続計測が可能

シリコン・化合物の半導体材料分析ソリューションを数多く提案