CMP Process Evaluation

最適なCMPプロセス実現に向けた分析・計測ソリューション

原液～希薄試料まで解析、少量の異物を凝集観察し、長時間安定に測定可能

一台でナノ粒子の粒子径・ゼータ電位を分析

[アクセサリ] ワイドレンジで高濃度まで測定可能な粒子径分布測定装置

[特徴・仕様] 大好評の高濃度セルに加えて、画像解析ユニットが新登場

薬液を非接触でモニタリング。据付、配管等施工等のコストを削減

バブリングを用いたガス供給ラインにおけるプレカーサ―の濃度モニタリング・制御機器

1測定あたり  500μL(Lの100万分の1)という極めて微量なサンプリング量で測定が可能

超薄膜の膜厚・屈折率・消衰係数を分析、膜質の均一性を評価

シリコン・化合物の半導体材料分析ソリューションを数多く提案