表面分析
- 薄膜・めっき・熱処理・表面処理コーティングなどの研究開発
- 生産技術・品質管理の分野における迅速な表面分析/深さ方向分析
GD-OES(GDS)とは
GD-OES(Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy)とは、グロー放電領域のスパッタリングを用いて、導電性・非導電性皮膜をスパッタリングし、スパッタされた原子のArプラズマ内における発光を分光測定する手法です。
グロー放電発光表面分析法(GD-OES 法)は、めっき・熱処理・蒸着・スパッタなど各種表面処理が施された試料の深さ方向元素分析(Depth Profile Analysis) を迅速に行う分析手法です。 深さ方向への分析方法とし ては、二次イオン質量分析法(SIMS)、オージェ電子分光法(AES)、光電子分光法(XPS)や、試料切断・樹脂抱埋・ 研磨により作製した試料断面を SEM-EDX 観察や EPMA などにて元素分析するのが一般的ですが、これらの方法は分析および分析までの前処理に時間や経験を要するなど難しい面があります。 GD-OES 法は、迅速性に優れ、簡単に分析できると いう特長を有しており、めっきなどの湿式成膜や蒸着・ スパッタなどの乾式成膜で形成された薄膜に対する分析手法として活用されています。
GD-OES(GDS)の特長
GD-OES(GDS)の用途
HORIBAは、「Your Partner in Science」をテーマにオンラインセミナーで、各種分析の基礎やノウハウを紹介しています。皆様からのご視聴お申込みを心よりお待ち申し上げております。
粒子計測、蛍光X線分析、元素分析、分光分析、ラマン分光分析、蛍光分光分析、表面分析の基礎やノウハウを紹介したセミナー(アーカイブ動画)の一覧です。