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미국

자외선 형광법(UVF)

목차


측정 원리

자외선 형광법(UVF)이란 무엇입니까?

형광은 자외선과 같은 빛 에너지를 흡수한 물질이 빛을 방출하는 것입니다. 분자가 빛 에너지를 흡수하면 불안정하고 고에너지 상태(여기 상태)가 되고, 빛을 방출한 후 원래 에너지 상태(기저 상태)로 돌아갑니다.

예를 들어, 측정된 성분이 이산화황(SO2)를 샘플 가스에 넣고 특정 파장 (190nm-230nm)의 자외선을 샘플 가스에 조사하면 형광이 발생합니다. SO2분자에 자외선을 조사하면 UV방사선을 흡수하여 일정한 비율로 여기상태(SO2*)로 전이되고,SO2* 흡수 된 자외선의 파장보다 긴 파장의 자외선을 방출하여 기저 상태로 돌아갑니다. (수식 1)

방정식 1: 형광 반응(SO2의 경우)

(1)은 SO2가 자외선의 에너지 hv1을 흡수하여 여기 상태가 되는 것을 보여주고,
(2)는 여기 상태의 SO2*가 기저 상태로 복귀할 때 UV 방사선의 에너지(hv2)가 방출되는 것을 나타낸다.

SO2농도는 SO2*에 의해 발생하는 형광 강도 (240-420nm)에 비례하기 때문에 SO2농도는 형광의 감도를 감지하여 측정됩니다. 

이 원리는 샘플 가스에서 이산화황 (SO2)의 연속 농도 측정에 사용됩니다.
다음 섹션에서는 UVF를 사용하여 샘플 가스에서 SO2농도를 측정하는 방법에 대해 설명합니다.

UVF를 이용한 가스 분석기의 구조 및 작동 원리

UVF를 이용한 가스 분석기는 샘플 가스를 형광 셀로 유입시키고, 형광 셀 내에 UV 방사선 및 SO2에 의해 발생하는 UV 형광(수학식 1) 은 광학 필터를 통해 선택적으로 전송되고 포토디텍터에 의해 감지되어 가스 농도를 측정합니다(그림 1).

그림 1: UVF를 이용한 가스분석기의 구조 및 작동 원리

이산화황(SO2) 가스 분석기의 구조 및 작동 원리

이 섹션에서는 대기 중에서 SO2를 지속적으로 측정하는 가스 분석기의 구성 및 작동 원리에 대해 설명합니다.

분석기의 전체 구조의 예는 그림 2에 나와 있습니다. Xenon Flash Lamp가 UV 광원으로 사용됩니다. 높은 정확도로 SO2농도를 지속적으로 측정하기 위해 분석기는 검출기를 포함하여 측정 오류 요소를 줄이기 위한 다양한 메커니즘을 통합합니다. Xenon Flash Lamp의 빛 강도 변화를 보정합니다.

그림 2: UV 형광가스 분석기의 구조 및 동작 원리

작동 원리는 다음과 같습니다.

샘플 가스는 형광 셀을 통과하는 동안 특정 파장의 자외선을 조사합니다. 샘플 가스의 SO2농도에 따라 UV 광 흡수가 변경되고 형광에서 나오는 빛의 강도도 변경됩니다. 형광은 광학 필터에 의해 선택된 투과광으로 검출기에 들어가고 광검출기(광전자 증배관)에 의해 감지됩니다. 이 검출된 신호는 SO2농도를 계산하기 위해 처리되며, 이에 따라 샘플 가스 내의 SO2농도를 연속적으로 측정합니다.

측정에 영향을 미치는 요소의 저감(그림 3)

UVF를 사용한 SO2농도 측정은 UV 광원의 감소된 빛의 강도와 샘플 가스 내의 특정 방향족 탄화수소에 의해 영향을 받습니다. UVF를 사용하는 분석기는 다양한 메커니즘과 기능을 통해 이러한 영향 요인을 줄입니다.

그림 3: 측정에 영향을 미치는 요소의 저감.

자외선 광원의 영향 저감

측정된 가스의 농도가 낮을 때에도 충분한 형광을 발생시키기 위해 고휘도의 크세논 플래시 램프를 UV 광원으로 사용합니다. 크세논 플래시 램프는 다양한 파장의 빛을 방출하기 때문에 빛이 여기광과 같이 형광 셀을 그대로 투과시키면 형광 이외의 형광은SO2또한 감지기를 전송하고 측정 값에 영향을 미칩니다. 이러한 영향에 대한 대책으로 HORIBA는 여러 반사 광학 필터를 사용하여 여기광에 필요한 파장을 선택합니다. 크세논 플래시 램프의 UV 광량은 장기간의 조명에 의해 감소하기 때문에, 광 강도의 변화는 광 강도에 대한 보상 검출기로 측정되고, SO2감지된 변화에 따라 농도가 보정됩니다.

 

포토디텍터에 대한 미광 입사에 의한 영향 저감

형광 측정의 노이즈가 되는 형광 셀 내의 미광을 저감하기 위한 광학 설계를 실시합니다. 형광 셀 내벽의 특수코팅은 형광 측정의 노이즈를 줄입니다. 이러한 대응을 통하여, 포토 디텍터에 입사되는 미광을 저감하고 있습니다. 또한, 형광 셀 내벽에 있는 특수 코팅은 SO2의 흡착을 방지합니다.

 

기타 성분가스에 의한 영향의 저감

UV를 흡수하고 형광을 방출하는 톨루엔과 자일렌 등의 방향족 탄화수소가 SO2측정에 영향을 미칩니다. 이러한 영향을 줄이기 위해 이러한 가스는 샘플 가스가 형광 셀로 흐르기 전에 방향족 탄화수소 제거 장치에 의해 제거됩니다. 또한, SO2형광을 선택적으로 투과시키는 광학 필터를 사용하여 다른 가스에 의한 형광의 영향을 줄입니다.

비분산적외선흡수법(NDIR)과의 비교

HORIBA는 자외선 형광법 (UVF) 또는 비분산 적외선 흡수법 (NDIR)을 분석기의 측정 방법으로 사용하여 SO2를 측정합니다. HORIBA는 각 방식의 특징을 살려 사용 목적과 운영 환경에 맞는 최적의 분석기를 제공합니다. 이 섹션에서는 두 가지 방법의 기능을 요약합니다. (표 1)

비분산 적외선 흡수(NDIR)에 대한 자세한 내용을 보려면 여기를 클릭하세요.

이 표는 자사 제품을 비교한 것입니다.

표 1: 자외선 형광법 (UVF)과 비분산적외선흡수법(NDIR)의 비교(SO2)

최적의 방법은 주로 SO2측정 농도 범위를 기준으로 선택됩니다. 예를 들어, 주변 공기에서 SO2를 측정 할 때는 UVF 분석기가 사용되고, 배기 가스에서 SO2를 측정 할 때는 NDIR 분석기가 사용됩니다.


관련 제품

자외선 형광법 (UVF) 분석기는 대기중의 오염 물질 중 하나인 이산화황(SO2)의 연속측정에 사용되고 있습니다. 또한 반도체 클린룸 내의 오염 물질인 이산화황(SO2)을 모니터링하는 데 사용됩니다.

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