■開催日時:2024年9月25日(水)~9月26日(木)10:00~17:00
■会場:マリンメッセ福岡 B館 (HORIBAブース:9-12)
※ご来場の際は事前に来場登録をお願い致します。
ガス流量制御による装置間のばらつきを低減し、
生産性や歩留まりの向上に貢献します。
独自の電極構造により高精度・高安定を実現します。
信頼性の高い独自のセンサーを搭載し、非破壊・非接触の自動測定を可能にしたこのシステムにより、ウェハに関する膜厚・結晶化率・欠陥・異物検出といった様々な重要パラメーターをタイムリーに提供します。
40年の歴史に磨かれたレーザー散乱方式検査技術を用いた
フォトマスク異物検査装置です。
シリコン・化合物半導体から二次元材料まで、半導体材料の様々な分析装置をご提案します。
半導体製造現場の省力化・省人化・環境負荷低減に貢献する各種モニタリングシステムをご提案します。
■HORIBAブース:9-12
皆様のご来場を心よりお待ちしております。