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レティクル/マスク異物検査装置 PR-PD3
概要
高い稼働率と長期にわたる安定性で、多くの半導体製造現場から高く評価されているHORIBAの異物検査装置PDシリーズ。そのシンプルで長期安定稼働する搬送系、高スループット、信頼の光学系、さらに誤検出対策機能など高性能の数々を継承し、コンパクトにパッケージングしたのが、レティクル/マスク異物検査装置PR-PD3です。従来機(PR-PD2)と比べて約1/2という小型化を実現するとともに、低ランニングコストを追求。そして0.5μmの検出感度による広い汎用性。レティクル/マスク上の異物測定・異物検査の幅広いニーズにお応えするシンプルな装置が誕生しました。
特長
優れた機能で効果的な異物検査をサポート
- 従来比1/2の小型設計。
PR-PD2と比べて、床面積比で1/2という小型化を実現。占有面積が大幅に小さくなったので操作ユニット(オプション)を追加しても自由なレイアウトが可能です。 - 低ランニングコストを実現。
レーザ光には抜群の経済性を誇るHe-Neレーザを採用するとともに、シンプルなステージ搬送系を採用するなど、維持費・ランニングコストの大幅な低減を実現しました。 - 効果的な誤検出対策機能。
粗いパターン用の偏光差動と微細なパターン用のローパス差の両機能を搭載。この二方法の併用により、OPCなど両方の特性を持つパターンの誤検出対策を効果的に行うことができます。
測定原理
本装置ではレーザ散乱光方式を異物の検出原理としています。レーザ光は異物に照射されると散乱されますが、その散乱強度を測定することにより異物を 検出します。ガルバノミラーにより検査面全体にわたってレーザ光を走査し、散乱光の強度を測定します。レーザ光はレティクルやマスク上のパターンによって も散乱されますが、異物とパターンとでは散乱光の偏光特性が異なることから、光学系に偏光素子を挿入して両者を弁別します。さらに、異物とパターンとでは 信号に差があることに着目し、独自に開発したローパスフィルタにより弁別効率を向上。また、安定稼動のため、実績のあるHe-Neレーザ(633nm)を 採用。これらの技術改良により、先端マスクから汎用マスクまで幅広い対応が可能となりました。
価格
価格は仕様により異なりますので、別途お見積もりいたします。
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製造会社: HORIBA
