半導体・FPD製造

新気化方式のトルネードフロー方式による高効率気化を実現した小型の液体材料気化システムです。低温度での安定気化が可能です。

気液混合気化方式を採用した小型液体材料気化システム。液体材料の高効率気化を実現。

マルチレンジ/マルチガス機能を搭載したデジタルマスフローコントローラのベストセラーモデル。±1.0%S.P.の高精度、フルレンジ1秒以内の高速応答、5SCCMから500SLMのワイドレンジで、幅広いプロセスに貢献。

ラベルフリー生体分子間相互作用解析装置 OpenPlex は、細胞、タンパク質、ペプチド、核酸などの生体試料から薬物などの低分子化合物まで、あらゆる分子間の相互作用をラベルフリーかつハイスループットで解析する装置です。

メタルダイヤフラム、メタルO-リングを内蔵した高速応答ピエゾアクチュエータ―バルブ

先端マスク検査の大幅コストダウンを実現

高い稼働率と長期にわたる安定性を誇るレティクル・マスク異物検査装置PDシリーズ。その高性能機能を継承し、さらにS/N比を3倍以上向上、実用感度を大幅に向上させて、シリーズ最新機種HORIBA...

高スループットで効率的な異物検査・測定を実現。高い稼働率と長期にわたる安定性など、数々の高性能・高機能で多くの半導体製造現場で高く評価されているHORIBAのレティクル/マスク異物検査装置PDシリーズ。長期安定稼動する搬送系、高スループットなどの高性能機能を継承し、さらに独自に開発した信号処理方式により、シリーズ最高感度、最小0.35μmの微細異物検出を可能にしたのが、このレティクル/マスク異物検査装置PR-PD2です。各種のステッパーケースに対応する最大...

CS-131は、半導体製造における洗浄工程のSC-1溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。パーティクルや有機物の除去に使われるSC-1溶液(NH3/H2O2/H2O)の各成分濃度を常時モニタします。モニタ出力を用いたフィードバック制御を行うことにより、SC-1溶液の濃度を許容範囲に保つとともに無駄な薬液交換をなくすことができます。また冷却器一体型もラインアップし、広範囲なサンプル温度範囲に対応しました。

CS-152は、半導体製造における洗浄工程のSC-2溶液用の高精度な薬液濃度モニタで、従来にない高速応答性とコンパクト化を実現。金属イオン除去に使われるSC-2溶液(HCl/H2O2/H2O)の各成分濃度をリアルタイムで測定し、アラームで自動補給するタイミングを知らせます。短い測定周期の実現により濃度変化に対しても忠実に追従し、またコンパクト設計により容易に洗浄装置へ組込むことができます。

微少流量から大流量制御に対応したソレノイドバルブ搭載のマスフローコントローラ