製造工程管理

rf-GD-OES（GDS）分析装置は、Arプラズマにより試料をスパッタリングさせ、スパッタされた原子を原子発光させることで、元素分析を行う、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、薄膜・めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発・生産技術・品質管理の分野において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。

HE（High Efficiency）ラマンプロセスシステムはプロセスコントロールのためにハイスループットで安定したシステムとして開発されました。内部の光学部品が全て固定されており外観も頑丈でコンパクトに設計され、極力メンテナンスを少なくし操作も簡単にすることでプロセス現場からの要望に完全に応えています。

最高感度0.01μg/L(0.01ppb)で、極低濃度のシリカを測りたいという要求に確実にお答えします

簡単操作で光沢を測定し数値化し、幅広い分野での品質管理や空間の美化維持に活用できる光沢計です。

現場作業を容易にする、表示部と分離した測定部を被検体にあてるだけで計測できるハンディタイプの光沢計です。

生産終了いたしました。後継機種は溶存オゾンモニタHZ-960をご参照ください。

使用頻度の高い機能を中心に搭載したスタンダードタイプのpH計です。 工業排水の放流水監視から、各種工業分野における製造工程の監視、品質検査、水産、養殖まで幅広い用途に対応します。

ウェットプロセスにおける硫酸・過酸化水素中のppmレベルのフッ酸濃度管理を実現

ワンバス洗浄・枚葉洗浄に最適、低濃度のフッ酸・塩酸・アンモニアを高精度に測定

PDシリーズの高性能を継承しながら、一層の小型化により、優れたコストパフォーマンスを実現。レティクルストッカやステッパ、洗浄装置などへの組み込みも可能です。

レティクル反転機構0.5ー50μm選択可能検査系1系統装置内蔵／組合せ型