联系我们
找到我们
生产工艺正发展迅速，具体反映在对各种薄膜和复杂多层结构的精细评估和分析的需求不断增长。HORIBA 系统能够测量薄膜特性，包括复杂和多层薄膜以及超薄二氧化硅膜的应力、厚度和光学常数。
There are no results for this filter combination!
基于光发射光谱和 MWL 干涉测量法的工艺终点/反应腔健康监测
光发射光谱蚀刻终点监测仪
用于腔室清洗终点监测的气体监测仪
蒸汽浓度监测仪
用于腔室清洗终点监测的高级气体监测仪
基于实时激光干涉测量的摄像头终点监测
Laser Gas Analyzer
Quadrupole Mass Analyzer
紧凑型工艺气体监测仪
等离子体发射控制器
电容压力计
电容式压力计
展开
如您有任何疑问，请在此留下详细需求信息，我们将竭诚为您服务。
* 这些字段为必填项。
