Quais são as fontes de luz no VUV?

As instalações de radiação síncrotron fornecem radiação contínua intensa, desde as regiões espectrais de micro-ondas (harmônicos do campo de radiofrequência de excitação) até raios X, emitida por elétrons de alta energia que são acelerados centripetamente nos campos magnéticos de um anel de armazenamento. Seus feixes são polarizados e quase colimados.

Esta é a fonte de luz ideal, a mais potente e certamente a mais cara já construída, com suas dimensões enormes (centenas de metros de diâmetro) e sua complexidade em um ambiente de ultra-alto vácuo.

Existem menos de cem instalações de síncrotron em todo o mundo.

Um FEL (Laser de Elétrons Livres) é a quarta geração de síncrotrons. É um tipo de laser que utiliza elétrons acelerados até a velocidade da luz, que então atravessam um ondulador muito longo (uma matriz linear composta por ímãs). Devido à alternância das polaridades dos ímãs, a trajetória do elétron torna-se sinusoidal. Esse efeito produz a emissão de radiação. Os FELs têm muitos pontos em comum com os síncrotrons: suas regiões de emissão, suas potências, seus tamanhos, suas complexidades e seus custos. Esses lasers podem ser sintonizados desde micro-ondas até raios X.

Quando a emissão de um laser pulsado de alta potência é focalizada em um alvo sólido, cria-se um plasma de curta duração (nanossegundos), alta temperatura (50 a 100 eV) e alta densidade (~10²¹ cm⁻³). A radiação de certos materiais do alvo, particularmente as terras raras e metais vizinhos na tabela periódica, produz um forte quase-contínuo no ultravioleta extremo (VUV) que é essencialmente livre de linhas discretas. Os contínuos são mais intensos na região de 4 a 30 nm, mas frequentemente se estendem até cerca de 180 nm.

Devido ao seu alcance de emissão limitado, os LPP são usados principalmente em astronomia e na indústria de semicondutores (microlitografia). Arcos, faíscas e descargas.

Diversas fontes de luz VUV emitem linhas e/ou radiação contínua no ultravioleta extremo (VUV). Elas são baseadas em descargas gasosas, arcos de alta pressão, faíscas de baixa pressão e faíscas no vácuo. Essas fontes não são tão intensas quanto a radiação síncrotron e os plasmas induzidos por laser, mas são portáteis e de baixo custo.

• Descargas de H ₂ e D ₂: 115~350 nm, dependendo do material da lâmpada;
• Mini-arco de argônio: desde o ultravioleta próximo até aproximadamente 115 nm;
• Descargas de gases inertes: Descargas de plasma geradas por meio de He, Ar, Kr e Xe abrangem principalmente a região de 20 a 700 nm. Alguns projetos disponíveis são Penning, cátodo oco bombeado, plasma capilar ou fonte Damany.